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C2 Altus

C2 Altus是Novellus基于DLCM平臺(tái)的WCVD設(shè)備，最多可配置3個(gè)工藝腔，每個(gè)腔體能同時(shí)加工5片wafer，生產(chǎn)工藝最高可達(dá)65nm。

產(chǎn)品特點(diǎn)

1.可選配雙硬盤自動(dòng)備份系統(tǒng)，保證數(shù)據(jù)安全。
2.可選配EPD裝置。